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Die Plasma EPOS Technologie – „Grüne“ Produktion von Halbleitern
Im Jahr 1996 führte Diotec die „Plasma EPOS Technologie“ ein; dank dieser Technik wurden in den vergangenen 25 Jahren 1 200 m³ Chemikalien eingespart – das entspricht etwa dem Volumen eines Kurzstrecken-Beckens bei den Olympischen Spielen.
EPOS ist das Akronym für Etched and Protected On Slice. Anstelle von giftigen Chemikalien wird das Ätzen und die erste Passivierung in einem Plasma-Prozess unter nahezu Vakuumbedingungen durchgeführt.
Dieses umweltfreundliche Verfahren wird in den Produktionsstandorten Deutschland und Slowenien angewandt.
Plasma EPOS Chips werden in allen Melf und MiniMelf-Typen verwendet, in allen Dioden mit niedriger Vorwärtsspannung, einigen Zener und TVS Dioden sowie etlichen Brückengleichrichtern. Hier gelangen Sie zu unseren Selection Guides mit unseren wichtigsten Produkten.